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Griglia rigata piana 1200l/mm 210nm-1060n

Griglia rigata piana 1200l/mm 210nm-1060n

Per i sistemi laser ad alta-potenza, il margine di errore è zero. Ogni componente ottico deve resistere a densità di energia estreme mantenendo la purezza spettrale. Jilin Juyao Technology Co., Ltd. (JYTEC) presenta il reticolo laser ad alta-potenza 1200 l/mm 210 nm-1060 nm, un robusto reticolo di diffrazione piana progettato specificamente per applicazioni laser impegnative. In qualità di produttore specializzato, combiniamo l'avanzata tecnologia di rivestimento a film sottile-con una rigatura del reticolo di precisione per fornire un componente che offre sia un'elevata efficienza di diffrazione che un'eccezionale soglia di danno indotto dal laser (LIDT). Coprendo una gamma di banda ultra-larga dall'UV profondo al vicino-infrarosso, questo reticolo è la soluzione ideale per la compressione degli impulsi laser, i sistemi laser sintonizzabili e la combinazione di raggi spettrali ad alta potenza.
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Descrizione
Parametri tecnici
Numero Densità della linea (l/mm) Lunghezza d'onda della fiammata (nm) Angolo di fiammata Area di tracciatura (A×L, mm²)
JY-088 1200 210 7,2 gradi 25×25&50×50
JY-089 1200 250 8,6 gradi 25×25&50×50
JY-090 1200 310 10,7 gradi 25×25&50×50
JY-091 1200 360 12,5 gradi 25×25&50×50
JY-092 1200 430 15,0 gradi 25×25&50×50
JY-093 1200 500 17,5 gradi 25×25&50×50
JY-094 1200 540 18,9 gradi 25×25&50×50
JY-095 1200 640 22,6 gradi 25×25&50×50
JY-096 1200 720 25,6 gradi 25×25&50×50
JY-097 1200 750 26,74 gradi 25×25&50×50
JY-098 1200 800 28,7 gradi 25×25&50×50
JY-099 1200 1000 36,9 gradi 25×25&50×50
JY-100 1200 1060 39,5 gradi 25×25&50×50


Caratteristiche principali

 

 

  • Soglia di danno elevata della banda larga: progettato per resistere ai rigori dei laser ad alta-potenza nell'intero spettro di 210 nm-1060 nm. I design proprietari del rivestimento riducono al minimo l'assorbimento e massimizzano la resistenza ai danni indotti dal laser.
  • Densità di scanalatura ottimizzata di 1200 l/mm: Bilancia l'elevata dispersione con un'ampia copertura spettrale, rendendolo eccezionalmente versatile per applicazioni laser UV e NIR. Ideale per l'uso in un monocromatore a reticolo piano all'interno di una configurazione ad alta-potenza.
  • Regola avanzata per la dispersione minima: Le scanalature-di precisione con profili ultra-lisci assicurano che l'efficienza di diffrazione del reticolo piano sia massimizzata mentre la luce diffusa sia ridotta al minimo, proteggendo esperimenti o processi sensibili a valle.
  • Gestione termica superiore: il substrato e l'interfaccia di montaggio sono progettati per dissipare in modo efficiente il calore generato dall'elevato-assorbimento di potenza, garantendo stabilità del piano del reticolo e prestazioni costanti nel tempo.
  • Substrati di qualità- aerospaziale: Prodotto su substrati ad alta-conduttività termica-con eccezionale planarità, garantendo una distorsione minima del fronte d'onda anche in caso di carico termico elevato.

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